
Das Rasterelekronenmikroskop ermรถglicht hiermit eine hochprรคzise Analyse Ihrer Probenoberflรคche. Die wichtigste Informationsquelle hierzu stellen die so genannten Sekundรคrelektronen (SE) dar, welche mit einem speziellen in die Hochvakuumkammer hineinragenden SE-Detektor erfasst werden. Die Auflรถsung wird fast nur durch den erreichbaren Strahldurchmesser bestimmt. Dieser ist vergleichsweise klein, daher erlauben SE-Bilder eine sehr hohe Auflรถsung. Dies ermรถglicht es unseren Experten eine Beurteilung kleinster Nanostrukuren oder Materialrisse in der Probenoberflรคche.
Ein weiters wichtiges Abbildungsverfahren ist mit Hilfe unseres Rรผckstreuelektronendetektors (BSD) mรถglich. Hierzu werden die vom Objekt zurรผckgestreuten Primรคrelektronen mit einem Detektor erfasst. Rรผckstreuelektronen sind energiereicher als Sekundรคrelektronen und die Intensitรคt des Signals ist in erster Linie von der mittleren Ordnungszahl des Materials abhรคngig. Somit ergeben sich sogenannte Materialkontrastbilder welche Rรผckschlรผsse auf die Verteilung verschiedener Materialien oder Elemente im Bild ermรถglichen.
Dieser Detektor kombiniert exzellente Energieauflรถsung mit einem grรถรeren Raumwinkel und mit 30 mmยฒ aktiver Flรคche. Er erlaubt auf Grund seines Leichtelementfensters eine Detektion von Elementen mit Ordnungszahlen grรถรer/gleich 5 (Bor).

Sowohl die REM-Aufnahmen als auch das EDX-Spektrum werden anschlieรend in einem ausfรผhrlichen Prรผfbericht zusammengefasst und ausfรผhrlich ausgewertet.
Somit erhalten Sie die wichtigsten Prรผfkriterien und Auswertungen auf einen Blick inklusive ausfรผhrlicher Detailseiten mit genaueren Herleitungen.
Unser Standardprรผfbericht beinhaltet eine SE/BSD รbersichtaufnahme der Probe, eine SE-Detailaufnahme (1000-fache Vergrรถรerung) und zwei BSD-Aufnahmen in 50-facher Vergrรถรerung zur ersten Beurteilung der Oberflรคche (Vergrรถรerungen kรถnnen variieren).
Ergรคnzend ist die EDX-Analyse an einer zuvor definierten Stelle der Probenoberflรคche Teil des Berichts.
Die Rasterelektronenmikroskopie (REM) ist ein unverzichtbares Werkzeug fรผr die prรคzise Oberflรคchenanalyse, insbesondere bei Serienfertigungen in der Medizintechnik.
- Valide Analyse der Oberflรคchenreinheit: Identifikation von Verunreinigungen und Defekten auf mikroskopischer Ebene.
- Qualitรคtssicherung: Gewรคhrleistung, dass Ihre Produkte hรถchste Standards erfรผllen und langfristig zuverlรคssig sind.
- Erhรถhung der Systemsicherheit: Saubere und homogene Oberflรคchen minimieren das Risiko von Komplikationen bei Implantaten und anderen medizintechnischen Bauteilen.
- Vermeidung von Produktionsfehlern: Frรผhe Identifikation potenzieller Kontaminationen reduziert Ausschuss und spart Kosten.
- Langjรคhrige Erfahrung: Unsere Expertise in der Analyse von Dental- und Orthopรคdieimplantaten ermรถglicht es uns, potenzielle Schwachstellen gezielt zu identifizieren und gemeinsam mit Ihnen zu beseitigen.
- DAkkS-akkreditierte Prรผfberichte: Unsere Prรผfberichte erfรผllen hรถchste Anforderungen und sind international anerkannt, was Ihnen zusรคtzliche Sicherheit und Vertrauen bietet.
- Moderne Technik: Unser Rasterelektronenmikroskop liefert hochauflรถsende Ergebnisse, die Ihnen die Grundlage fรผr fundierte Entscheidungen und Qualitรคtsverbesserungen bietet.
Mit unserer REM-Analyse erhalten Sie nicht nur valide Einblicke in Ihre Oberflรคchen, sondern auch die Sicherheit, dass Ihre Produkte den hรถchsten Standards entsprechen โ fรผr maximale Kundenzufriedenheit und eine langfristige Wettbewerbsfรคhigkeit.